Ingénieur / Ingénieure de recherche scientifique (H/F)

non renseigné

Participer au développement et à la caractérisation des procédés de gravure sèche.

Details

Mission :

L'ingénieur d'étude (H/F) en élaboration de matériaux en couches minces participera au développement et à la caractérisation des procédés de gravure sèche.
Il/elle aura également à charge la gestion des équipements dédiés à la gravure sèche, dont il/elle aura la responsabilité (formation, maintenance, suivi des procédés et calibration).

Activités :

  • Prendre en main des équipements de gravure plasma de la ressource avec une priorité sur les machines de gravures ioniques réactives à couplage capacitif (RIE CCP) en chimie fluorée et gravures ioniques réactives à couplage inductif (RIE ICP) en chimie chlorée.
  • Assurer le développement de procédés de pointe en gravure plasma pour les besoins du laboratoire et des demandeurs.
  • Mettre en œuvre des moyens de caractérisation adaptés au développement de procédés (Microscopie Electronique à Balayage, microscopie optique, profilométrie...).
  • Assurer la maintenance de 1er niveau et les relations avec les équipementiers des équipements sous sa responsabilité et contribuer au bon fonctionnement de la ressource gravure sèche.
  • Effectuer des opérations courantes d'entretien et de maintenance des équipements (nettoyage des réacteurs de gravure).
  • Assurer la formation et l'aide aux utilisateurs.
  • Appliquer et faire appliquer les règles d'hygiène et de sécurité.
  • Veiller à l'alimentation des outils web (cahier numérique, interface de réservation) et bases de données de suivi des équipements sous sa responsabilité.
  • Assurer une veille technologique (notamment sur le suivi des évolutions techniques et scientifiques en gravure sèche).
  • Participer à des projets de recherche en interaction avec les chercheurs ou les collaborateurs extérieurs au laboratoire.

Comment postuler à cette offre

Pour postuler, utiliser le lien suivant : https://emploi.cnrs.fr/Offres/CDD/UMR9001-BENBEL-005/Default.aspx

Posted here on 14/05/2025